溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应 用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域，不同领域需要的靶材各不相同。
产品名称：异型钛靶材
材质：纯钛 TA1
规格：20*20*50mm/20*30*50mm
晶粒度：<100um
公差：<±0.1mm
