平面靶材主要是指具有一定厚度的圆形靶材及矩形靶材。平面靶材通过螺纹等方式与溅射设备相连接，在真空条件下溅射成膜层附着于基片上，再通过各种手段（刻蚀）对薄膜加工，以满足不同需要。
溅射镀膜原理：
用加速的离子轰击固体表面，离子和固体表面，原子交换动量，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，该过程即为溅射镀膜。
产品名称：铌溅射靶材
纯度：≥99.95%
晶粒度：≤100um
生产工艺：热等静压工艺（HIP）。
应用领域：装饰行业、建筑玻璃、汽车玻璃、低辐射玻璃、平面显示器、光学工业、光数据存储行业等。
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