溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应 用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域，不同领域需要的靶材各不相同。
按照形状可分为平面靶材、旋转靶材和多弧靶材（阴极靶）。
产品名称：钛圆靶、钛靶块
材质：纯钛（TA1/TA2）
靶材纯度：>99.5%（2N5）
常用规格：￠100*40mm，￠100*10mm等等
晶粒度：≤100um
生产工艺：热等静压HIP
注：其他比例及尺寸根据客户要求定制
最小起订量：5件
|
|
| 微信二维码 |
